1、系統(tǒng)誤差的來源

　　(1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。

　　(2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。

　　(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時，測出的數(shù)據(jù)會有所差別。

　　(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。

　　(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對結(jié)果。

　　2、偶然誤差的來源

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：

　　(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。

　　(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。

　　(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。

　　(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。

　　

　　以上是對影響國產(chǎn)拉曼光譜儀的分析質(zhì)量的介紹。